1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Evento (Conference Proceedings) |
Site | mtc-m21b.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | 8JMKD3MGP3W34P/3KTDMD8 |
Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21b/2016/01.06.18.10 (acesso restrito) |
Última Atualização | 2016:01.06.18.14.15 (UTC) administrator |
Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21b/2016/01.06.18.10.50 |
Última Atualização dos Metadados | 2018:06.04.02.56.00 (UTC) administrator |
Chave Secundária | INPE--PRE/ |
Chave de Citação | SilvaJúniorRossUeda:2015:PIBaPr |
Título | PIII in batch processing mode using HV Blumlein pulser with pulse extended to the microsecond range |
Ano | 2015 |
Data de Acesso | 09 maio 2024 |
Tipo Secundário | PRE CI |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 291 KiB |
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2. Contextualização | |
Autor | 1 Silva Júnior, Ataide Ribeiro da 2 Rossi, José Osvaldo 3 Ueda, Mário |
Identificador de Curriculo | 1 2 8JMKD3MGP5W/3C9JHJ5 3 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB |
Grupo | 1 CMS-ETES-SPG-INPE-MCTI-GOV-BR 2 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR 3 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR |
Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Endereço de e-Mail do Autor | 1 ataide@plasma.inpe.br 2 jose.rossi@inpe.br 3 ueda@plasma.inpe.br |
Nome do Evento | IEEE International Power Modulator and High Voltage Conference (IPMHVC 2014) |
Localização do Evento | Santa Fe, USA |
Data | 1-4 June |
Título do Livro | Proceedings |
Histórico (UTC) | 2016-01-06 18:10:50 :: simone -> administrator :: 2018-06-04 02:56:00 :: administrator -> simone :: 2015 |
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3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Tipo de Versão | publisher |
Palavras-Chave | batch processing HV Blumlein pulser metal ceramic interface plasma immersion ion implantation |
Resumo | In this work, high-energy PIII process is used to solve the problem of soldering terminals to silver film electrodes without compromising their adhesion to ceramic substrates in electronic components such as ceramic capacitors. Besides, PIII batch-processing mode is other important technique used to optimize the treatment of metallic and polymeric surfaces for industrial applications such as components with rigid qualification used in the aerospace industry. For this, a sample holder made of stainless steel (SS304) with the shape of a cage allows applying the PIII processing on both faces of the flat components, simultaneously. As the batch-mode process requires increased pulse duration, the redesign of a HV Blumlein pulser was made to increase the pulse duration from 1.0 μs to 5.0 μs, but at the cost of decreasing the output voltage from 60 kV during treatment to less than 20 kV. The longer pulse duration permits deeper penetration of ions into the material surface. |
Área | FISPLASMA |
Arranjo 1 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > PIII in batch... |
Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção pgr ATUAIS > CMS > PIII in batch... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | |
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4. Condições de acesso e uso | |
Grupo de Usuários | simone |
Grupo de Leitores | administrator simone |
Visibilidade | shown |
Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
Permissão de Atualização | não transferida |
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5. Fontes relacionadas | |
Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.22 |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS 8JMKD3MGPCW/3F358GL |
Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1 sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.52.24 1 sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.56.06 1 |
Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20 |
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6. Notas | |
Campos Vazios | archivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination doi e-mailaddress edition editor format isbn issn label language lineage mark nextedition notes numberofvolumes orcid organization pages parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project publisher publisheraddress rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark serieseditor session shorttitle sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype type url volume |
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7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | simone |
atualizar | |
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